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DLPLCR65NEVM
DLPLCR65NEVM 是适用于激光烧结、烧蚀、打标、编码、打印和其他使用近红外光源的应用的高级成像选项。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时，用户可以获得像素精确控制及高达 12,500Hz 的 1 位图形速率。;
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DLPLCR65NEVM 是适用于激光烧结、烧蚀、打标、编码、打印和其他使用近红外光源的应用的高级成像选项。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时，用户可以获得像素精确控制及高达 12,500Hz 的 1 位图形速率。
特性
- 目标为 850nm 至 2000nm，且可与多种近红外照明源（例如，激光、灯泡、LED）兼容
- DLP650LNIR DMD 具有 1280 x 800 个透镜，且它们之间的间距为 10.8µm
- DLP650LNIR DMD 具有高效散热型 S450 封装
- 带孔的 DMD 板，便于安装
- 12 英寸柔性电缆，用于在台座上灵活定位 DMD
操作